- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束,激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計(jì)
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品

8.5"實(shí)驗(yàn)室等離子清洗機(jī)配有一個(gè)直連式雙旋真空泵,可對腔體進(jìn)行抽真空,同時(shí)通入氬氣等保護(hù)氣體,適用于對易氧化的物品的清洗。本機(jī)主要是通過空氣、氧氣或氬氣等氣體的等離子體來去除基片上的氧化層和污染物,同時(shí)也可改變物體表面的性質(zhì)(如親水和疏水性等),對于基片的清洗以及薄膜處理是較為理想的設(shè)備。在單晶材料外延薄膜生長以前對其進(jìn)行預(yù)處理,將對生長具有顯著的作用。
8.5"實(shí)驗(yàn)室等離子清洗機(jī)技術(shù)參數(shù):
輸入功率 |
? AC 220V , 50/60 Hz, ? 射頻功率:80 W Max.(標(biāo)準(zhǔn)) ? 真空泵:正常550W,啟動(dòng)750W ? 總功率:830W max. ? 工作電流≤3A |
射頻功率 |
? 射頻功率可在0-80W范圍內(nèi)調(diào)節(jié) ? 射頻:13,56 MH ? 可選:可根據(jù)要求提供300 W射頻電源,需額外收費(fèi) |
等離子室 |
? 8.5" O.D×8.2" I.D×14" L高純度石英室 ? 體積: 12 L ? 鉸鏈?zhǔn)角胺ㄌm由鋁制成 ? 2.3”直徑(60mm)石英窗口,便于觀察 ? 完全屏蔽RF輻射,零RF泄漏 |
控制面板 |
? 6”彩色觸摸屏,可自動(dòng)控制所有參數(shù),用于等離子清潔,如真空度,氣體流速,RF功率水平和清潔時(shí)間。 ? 內(nèi)置一個(gè)通道質(zhì)量流量計(jì)(0-500ml /分鐘),控制氣體流量+/- 0.5 ml / m |
真空泵和閥門 |
? 包含排氣過濾器,KF25D適配器和夾具的240 L / m重型旋片式真空泵可立即使用 ? *終總壓力為50 mTorr |
惰性氣體 |
? 可以選擇許多惰性氣體進(jìn)行等離子體清潔,如N2,Ar,空氣和混合氣體,取決于將要處理的材料類型。(不包括在包裝內(nèi)) ? 等離子清潔器不得使用易燃?xì)怏w |
總體尺寸 |
620 L×600 W×600 H, mm |
保證 |
一年有限保修,終身支持(耐熱玻璃室無保修) |