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桌面型鋁合金腔體單靶磁控濺射鍍膜儀是一種緊湊型鍍膜設備，采用磁控濺射技術在基片表面沉積薄膜。其核心特點包括：
鋁合金真空腔體：輕量化設計，耐腐蝕性好，適合實驗室或小規(guī)模生產環(huán)境。
單靶配置：支持單一靶材（如金屬、合金或氧化物），結構簡單，操作便捷。
磁控濺射技術：利用磁場約束等離子體，提高濺射效率，形成均勻、致密的薄膜。
桌面設計：體積小巧，適合科研院所、高校實驗室等空間有限的場所。
應用領域：
該設備廣泛用于材料科學、光學、電子等領域，具體包括：
光學薄膜：如增透膜、反射膜、濾光片等。
電子器件：半導體電極、導電薄膜（如ITO）、傳感器涂層。
功能材料：耐磨涂層（如TiN）、防腐涂層、超硬薄膜（類金剛石）。
科研實驗：新材料開發(fā)、薄膜性能測試、教學演示等。
磁控濺射鍍膜儀技術參數：
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產品名稱 |
桌面型鋁合金腔體單靶磁控濺射鍍膜儀 |
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產品型號 |
CY-MSZ200-I-DC-AA |
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樣品臺 |
外形尺寸 |
φ100mm |
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加熱溫度 |
≦500℃ |
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旋轉 |
自轉+公轉角度傾斜2英寸 |
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可調轉速 |
≦20rpm |
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磁控靶槍 |
配一支兩英寸磁控靶，靶材尺寸:直徑50.8mm，厚度≦3mm |
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真空腔體 |
腔體尺寸 |
φ200mm X 150mm |
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觀察窗口 |
全向透明 |
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腔體材料 |
鋁合金 |
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開啟方式 |
上蓋拆卸式 |
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真空系統 |
真空測量 |
復合真空計，量程:10-5~105Pa |
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抽氣接口 |
KF25 |
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抽氣接口 |
KF25 |
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排氣接口 |
KF25 |
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系統真空 |
1.0E-1Pa（機械泵） |
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供電電源 |
AC 220V 50/60Hz |
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電源配置 |
電源數量 |
直流電源一套 |
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輸出功率 |
直流電源500W |
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其他參數 |
供電電壓 |
AC220V,50Hz |
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整機功率 |
2kW |
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重 量 |
30kg |
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整機尺寸 |
385X450X420mm |
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