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離子源雙靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發(fā)的配有兩個(gè)靶位的實(shí)驗(yàn)室專用鍍膜儀，設(shè)備配有兩臺(tái)直流電源，兩臺(tái)射頻電源，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等。
磁控濺射相較于普通的等離子濺射擁有能量高速度快的優(yōu)點(diǎn)，鍍膜速率高，樣品溫升低，是典型的高速低溫濺射。磁控靶配有水冷夾層，水冷機(jī)能夠有效的帶走熱量，避免熱量在靶面聚集，使磁控鍍膜能長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定工作。
本型號(hào)采用靶下置布局，樣品臺(tái)在上方，與靶面高度可通過(guò)程序**可調(diào)，并且可旋轉(zhuǎn)加熱，性能優(yōu)異。
離子源雙靶磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù)：
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產(chǎn)品名稱 |
離子源雙靶磁控濺射鍍膜儀 |
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產(chǎn)品型號(hào) |
CY-MSH500X-II-DCRF-SS |
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供電電壓 |
AC220V，50Hz |
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整機(jī)功率 |
6KW |
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極限真空度 |
5x10-4Pa |
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樣品臺(tái) |
尺寸 |
150mm |
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高度 |
上下70mm**可調(diào) |
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加熱溫度 |
≤850℃ |
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轉(zhuǎn)速 |
1-20rpm |
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磁控濺射頭參數(shù) |
數(shù)量 |
4個(gè)2”磁控濺射頭 |
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冷卻方式 |
水冷，所需流速10L/min |
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水冷機(jī)規(guī)格 |
10L/min流速的循環(huán)水冷機(jī) |
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真空腔體 |
腔體尺寸 |
φ500mm X550mm H |
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腔體材料 |
不銹鋼 |
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觀察窗口 |
φ100mm |
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開(kāi)啟方式 |
前開(kāi)門(mén)式 |
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氣體流量控制器 |
1路質(zhì)量流量計(jì)用于控制Ar流量，量程為:200SCCM Ar； |
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真空泵 |
配有一套分子泵系統(tǒng)，抽速1200L/S |
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膜厚儀 |
石英振動(dòng)薄膜測(cè)厚儀一臺(tái)，分辨率0.10 ? |
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濺射電源 |
直流電源2臺(tái)，500W，適用于制備金屬膜 射頻電源2臺(tái)，500W，適用于非金屬鍍膜 |
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操作方式 |
CYKY自研專業(yè)級(jí)控制系統(tǒng) |
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整機(jī)尺寸 |
1250mm X 1000mm X2000mm |
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整機(jī)重量 |
500kg |
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