- 磁控濺射鍍膜儀
 - 熱蒸發(fā)鍍膜儀
 - 高溫熔煉爐
 - 等離子鍍膜儀
 - 可編程勻膠機
 - 涂布機
 - 等離子清洗機
 - 放電等離子燒結(jié)爐
 - 靜電紡絲
 - 金剛石切割機
 - 快速退火爐
 - 晶體生長爐
 - 真空管式爐
 - 旋轉(zhuǎn)管式爐
 - PECVD氣相沉積系統(tǒng)
 - 熱解噴涂
 - 提拉涂膜機
 - 二合一鍍膜儀
 - 多弧離子鍍膜儀
 - 電子束,激光鍍膜儀
 - CVD氣相沉積系統(tǒng)
 - 立式管式爐
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 - 高溫真空爐
 - 氧化鋯燒結(jié)爐
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 - 箱式氣氛爐
 - 高溫高壓爐
 - 石墨烯制備
 - 區(qū)域提純爐
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 - 真空手套箱
 - 真空熱壓機
 - 培育鉆石
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 - 高性能真空泵
 - 質(zhì)量流量計
 - 真空法蘭
 - 混料機設(shè)備
 - UV光固機
 - 注射泵
 - 氣體分析儀
 - 電池制備
 - 超硬刀具焊接爐
 - 環(huán)境模擬試驗設(shè)備
 - 實驗室產(chǎn)品配件
 - 實驗室鍍膜耗材
 - 其他產(chǎn)品
 
    技術(shù)參數(shù):
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					 產(chǎn)品型號  | 
				
					 金屬熔煉封管爐  | 
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					 產(chǎn)品型號  | 
				
					 CY-DHLΦ200-SS-Φ4-F  | 
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					 主要特點  | 
				
					 該設(shè)備具有體積小,性能穩(wěn)定,操作簡單方便等優(yōu)點。  | 
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					 技術(shù)參數(shù)  | 
				
					 電弧熔煉室:φ200mm×300mm。選用上等不銹鋼板表面經(jīng)過電化學(xué)方法處理。  | 
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					 熔煉樣品  | 
				
					 重量≤15克(以不銹鋼標定)/每熔煉池,共4個熔煉工位  | 
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					 封管工位  | 
				
					 可焊接鉭管直徑φ5-φ14mm,長度50-100mm;工位自動旋轉(zhuǎn),轉(zhuǎn)速可調(diào)0-45rpm。  | 
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					 真空度  | 
				
					 標配的機械泵為:6.0E-1Pa。如果另配分子泵能達到5.0E-3Pa(標配不提供真空計)  | 
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					 起弧方式  | 
				
					 高頻引弧  | 
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					 額定輸入電量  | 
				
					 10.4 KVA  | 
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					 冷卻方式  | 
				
					 循環(huán)水冷卻  | 
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					 產(chǎn)品規(guī)格  | 
				
					 主機凈重:50kg  | 
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					 標準配件  | 
				
					 熔煉爐主機  | 
				
					 1套  | 
			
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					 氬弧焊機  | 
				
					 1臺  | 
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					 冷水機  | 
				
					 1臺  | 
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					 爐架  | 
				
					 1臺  | 
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					 真空泵  | 
				
					 1臺  | 
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					 可選配件  | 
				
					 吸鑄配件 (需購買時可聯(lián)系我司銷售)  | 
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					 應(yīng)用注意事項  | 
				
					 1.任何過程中不要松動外螺母,否側(cè)會造成電極漏水。 2.整機應(yīng)放置于干燥、潔凈的環(huán)境中。 3.應(yīng)定期檢查管路是否通暢并及時**水垢。電極桿中間的活動關(guān)節(jié)球需要經(jīng)常涂抹一些真空脂。這有助于減少密封圈的磨損,提高桿的靈活性,并且能增加熔煉室的密封效果。 4.熔煉室應(yīng)保持清潔,尤其是前后觀察窗,銅坩堝等重要部位。設(shè)備在不使用時需要抽至真空狀態(tài)保存。  | 
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